Optical Properties of SiNx Thin Films Grown by PECVD at 200℃
نویسندگان
چکیده
منابع مشابه
control of the optical properties of nanoparticles by laser fields
در این پایان نامه، درهمتنیدگی بین یک سیستم نقطه کوانتومی دوگانه(مولکول نقطه کوانتومی) و میدان مورد مطالعه قرار گرفته است. از آنتروپی ون نیومن به عنوان ابزاری برای بررسی درهمتنیدگی بین اتم و میدان استفاده شده و تاثیر پارامترهای مختلف، نظیر تونل زنی(که توسط تغییر ولتاژ ایجاد می شود)، شدت میدان و نسبت دو گسیل خودبخودی بر رفتار درجه درهمتنیدگی سیستم بررسی شده اشت.با تغییر هر یک از این پارامترها، در...
15 صفحه اولThin crystalline silicon solar cells based on epitaxial films grown at 165°C by RF-PECVD
We report on heterojunction solar cells whose thin intrinsic crystalline absorber layer has been obtained by plasma enhanced chemical vapor deposition at 165°C on highly doped p-type (100) crystalline silicon substrates. We have studied the effect of the epitaxial intrinsic layer thickness in the range from 1 to 2.4 μm. This absorber is responsible for photo-generated current whereas highly dop...
متن کاملStructural, Electrical and Optical Properties of Molybdenum Oxide Thin Films Prepared by Post-annealing of Mo Thin Films
Molybdenum thin films with 50 and 150 nm thicknesses were deposited on silicon substrates, using DC magnetron sputtering system, then post-annealed at different temperatures (200, 325, 450, 575 and 700°C) with flow oxygen at 200 sccm (standard Cubic centimeter per minute). The crystallographic structure of the films was obtained by means of x-ray diffraction (XRD) analysis. An atomic force micr...
متن کاملStructural, Electrical and Optical Properties of Molybdenum Oxide Thin Films Prepared by Post-annealing of Mo Thin Films
Molybdenum thin films with 50 and 150 nm thicknesses were deposited on silicon substrates, using DC magnetron sputtering system, then post-annealed at different temperatures (200, 325, 450, 575 and 700°C) with flow oxygen at 200 sccm (standard Cubic centimeter per minute). The crystallographic structure of the films was obtained by means of x-ray diffraction (XRD) analysis. An atomic force micr...
متن کاملذخیره در منابع من
با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید
ژورنال
عنوان ژورنال: Journal of the Korean Vacuum Society
سال: 2011
ISSN: 1225-8822
DOI: 10.5757/jkvs.2011.20.1.042